[发明专利]液晶显示装置阵列基板的制造方法无效
| 申请号： | 200710047578.2 | 申请日： | 2007-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN101424836A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 常程 | 申请（专利权）人： | 上海广电NEC液晶显示器有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G03F7/00;H01L27/12;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 薛 琦 |
| 地址： | 201108上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种液晶显示装置阵列基板的制造方法，该阵列基板包括一玻璃基板，形成于玻璃基板上的栅电极，覆盖于栅电极上的绝缘层，于绝缘层上沉积一层钝化层，一栅极扫描线形成于绝缘层中间区域上，光刻胶涂布于栅极扫描线上，其包括以下步骤：首先，对栅极扫描线进行第一次湿刻；接着对钝化层进行硅岛/光刻胶干刻；接着对栅极扫描线进行第二次湿刻；最后对钝化层进行沟道干刻。通过本发明液晶显示装置阵列基板的制造方法可以减少4层掩模板工艺中产生的栅极扫描线下非晶硅延展问题，还可以有效降低薄膜晶体管沟道表面Fence现象问题。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 显示装置 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种液晶显示装置阵列基板的制造方法，该阵列基板包括一玻璃基板，形成于玻璃基板上的栅电极，覆盖于栅电极上的绝缘层，于绝缘层上沉积一层钝化层，一栅极扫描线形成于绝缘层中间区域上，光刻胶涂布于栅极扫描线上，其特征在于，其包括以下步骤：步骤a，对栅极扫描线进行第一次湿刻；步骤b，对钝化层进行硅岛/光刻胶干刻；步骤c，对栅极扫描线进行第二次湿刻；步骤d，对钝化层进行沟道干刻。
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