[发明专利]电子部件、电介质陶瓷组合物及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710089361.8 申请日: 2007-03-23
公开(公告)号: CN101066867A 公开(公告)日: 2007-11-07
发明(设计)人: M·柳田;佐藤阳 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: C04B35/468 分类号: C04B35/468;H01G4/12;H01G4/30;H01B3/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孙秀武;李平英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供电介质陶瓷组合物的制造方法,其是制造含有下述成分的电介质陶瓷组合物的方法:含有钛酸钡的主成分、含有R1的氧化物(其中,R1为选自9配位时的有效离子半径不到108pm的稀土元素中的至少一种)的第4副成分、含有R2的氧化物(其中,R2为选自9配位时的有效离子半径为108pm~113pm的稀土元素中的至少一种)的第5副成分,其具有下述工序:使主成分原料与第4副成分和/或第5副成分的原料的一部分预先反应,得到反应过的原料的工序;和向反应过的原料中添加其余的第4和第5副成分的原料的工序,在最终得到的电介质陶瓷组合物中,R1的摩尔数M1与R2的摩尔数M2之比(M1/M2)在4<M1/M2≤100的范围。根据本发明,可提供即使将电介质层薄层化,也可兼顾相对介电常数和容量温度特性的电介质陶瓷组合物及其制造方法。
搜索关键词: 电子 部件 电介质 陶瓷 组合 及其 制造 方法
【主权项】:
1.电介质陶瓷组合物的制造方法,其是制造含有下述成分的电介质陶瓷组合物的方法,含有钛酸钡的主成分、含有R1的氧化物的第4副成分,其中,R1为选自由9配位时的有效离子半径不到108pm的稀土元素构成的第1元素组中的至少一种、和含有R2的氧化物的第5副成分,其中,R2为选自由9配位时的有效离子半径为108pm~113pm的稀土元素构成的第2元素组中的至少一种,其具有下述工序:使上述主成分的原料与将包含在上述电介质陶瓷组合物中的上述第4副成分的原料的一部分和/或上述第5副成分的原料的一部分预先反应,得到反应过的原料的工序;和向上述反应过的原料中添加将包含在上述电介质陶瓷组合物中的其余的上述第4副成分和上述第5副成分的原料的工序,在最终得到的上述电介质陶瓷组合物中,上述第4副成分R1的摩尔数M1相对于上述第5副成分R2的摩尔数M2之比M1/M2满足:4<M1/M2≤100。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710089361.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top