[发明专利]磁盘基板用研磨液组合物有效
| 申请号： | 200710101113.0 | 申请日： | 2007-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN101063031A | 公开（公告）日： | 2007-10-31 |
| 发明（设计）人： | 大岛良晓;山口哲史;土居阳彦 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B29/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈建全;姚晖 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的磁盘基板用研磨液组合物含有水、二氧化硅粒子和选自酸、酸的盐和氧化剂中的至少一种，其中，对于上述二氧化硅粒子，用将透射型电子显微镜观察测定得到的所述二氧化硅粒子的最大径作为直径的圆面积除以所述二氧化硅粒子的投影面积再乘以100所得到的值为100－130的范围。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 基板用 研磨 组合 | ||
【主权项】：
1、磁盘基板用研磨液组合物，其含有水、二氧化硅粒子和选自酸、酸的盐和氧化剂中的至少一种，其中，对于所述二氧化硅粒子，用将透射型电子显微镜观察测定得到的所述二氧化硅粒子的最大径作为直径的圆面积除以所述二氧化硅粒子的投影面积再乘以100所得到的值为100-130的范围。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于花王株式会社，未经花王株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710101113.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
