[发明专利]光刻设备、透镜干涉仪和装置制造方法有效
| 申请号： | 200710101801.7 | 申请日： | 2007-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN101055430A | 公开（公告）日： | 2007-10-17 |
| 发明（设计）人： | M·A·范德科克霍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;G01B9/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张亚宁;王小衡 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻设备包含被配置成可调节辐射束的照明系统；被配置成可将辐射束的至少一部分作为投影辐射束来投射的投影系统；以及用于感测投影辐射束的波前状态的透镜干涉仪。透镜干涉仪配有偏振元件以便能够感测投影辐射束的偏振态。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 透镜 干涉仪 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包含：照明系统，其被配置成可调节辐射束；投影系统，被配置成可将所述辐射束的至少一部分作为投影辐射束来投射；以及透镜干涉仪，用于感测所述投影辐射束的波前状态，其中所述透镜干涉仪配有偏振元件以便能够感测所述投影辐射束的偏振态。
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