[发明专利]荧光X射线分析设备有效
| 申请号： | 200710104555.0 | 申请日： | 2007-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN101078696A | 公开（公告）日： | 2007-11-28 |
| 发明（设计）人： | 深井隆行;的场吉毅;高桥正则 | 申请（专利权）人： | 精工电子纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G21K1/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 原绍辉;黄力行 |
| 地址： | 日本千叶*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 为提供荧光X射线分析设备，由此通过有效地激发聚焦元素改进峰－背比例且通过减小为背景的散射X射线改进聚焦元素的检测限度。样品外壳具有一个或更多由X射线传输通过的材料制成的壁表面，且布置X射线源为初级X射线照射到壁表面上。布置样品外壳为不同于初级X射线照射到的壁表面的壁表面与X射线检测器入射窗相对。布置来自X射线源的初级X射线以便能够照射X射线检测器入射窗相对的样品外壳的壁表面。样品外壳具有随着从X射线检测器入射窗观察X射线检测器内的检测元件的视场延伸而延伸的形状。在样品外壳壁上，用于次级激发聚焦元素的金属布置在除了初级X射线传输通过的区域和来自聚焦元素的荧光X射线传到检测器的区域的区域上。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 设备 | ||
【主权项】：
1.一种荧光X射线分析设备，其包括：用于容纳固体样品或液体样品的样品密封构件，其由X射线传输通过的材料制成；用于产生初级X射线的X射线源，初级X射线以放射状的方式从样品密封构件的侧壁进入，以便用X射线照射样品；及检测器，其与样品密封构件的底面相对设置，并具有在样品的方向内从入射点延伸至检测元件的入射立体角，用于检测从给予初级X射线的样品产生的荧光X射线；其中荧光X射线分析设备从检测的荧光X射线的谱进行样品的元素的分析。
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