[发明专利]复合式研磨垫及其制造方法有效
| 申请号： | 200710107156.X | 申请日： | 2007-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN101298132A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | 冯崇智;姚伊蓬;王良光;洪永璋 | 申请（专利权）人： | 三芳化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D13/14 | 分类号： | B24D13/14;B24D18/00;B24B29/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘国伟;林建成 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种复合式研磨垫及其制造方法。所述制造方法包括：(a)提供一缓冲层，所述缓冲层为连续多孔性材料，其具有一表面；(b)平整化所述表面，使所述表面形成一平整化表面；和(c)将一抛光层复合于所述平整化表面上，以形成一复合式研磨垫，其中所述抛光层为连续多孔性材料，用以抛光一待抛光元件。藉此，本发明的所述复合式研磨垫具有优选的均匀度，且所述缓冲层与所述抛光层具有优选的结合强度。 | ||
| 搜索关键词： | 复合 研磨 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种复合式研磨垫，包括：一缓冲层，所述缓冲层为连续多孔性材料，其具有一平整化表面；和一抛光层，所述抛光层为连续多孔性材料，复合于所述平整化表面上，以形成所述复合式研磨垫，其中所述抛光层用以抛光一待抛光元件。
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