[发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法以及基板的制造方法无效
| 申请号： | 200710111436.8 | 申请日： | 2007-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN101130187A | 公开（公告）日： | 2008-02-27 |
| 发明（设计）人： | 森口善弘;小笠原和义;井崎良;釜石孝生 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高科技 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;G02F1/1333;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明能够以高清洗力来均匀地清洗大型基板。上刷子(20)具有旋转轴(21)，并通过马达(22)的驱动而旋转。轴承块(23a、23b)以可旋转的方式支撑着上刷子(20)的旋转轴(21)。导向器(24a、24b)向旋转轴(21)的轴方向引导轴承块(23a、23b)。由于是一边保持上刷子(20)可向旋转轴(21)的轴方向移动一边使上刷子(20)旋转，所以即便上刷子(20)在旋转前产生弯曲，也可以在旋转过程中使上刷子(20)变位至旋转轴(21)的轴方向上，从而消除上刷子(20)的弯曲。因此，可以防止旋转轴(21)的偏向，使上刷子(20)接触于基板(1)的压力固定。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 以及 制造 | ||
【主权项】：
1.一种基板清洗装置，其特征在于该基板清洗装置包括：刷子，横跨基板的宽度而设，且一边旋转一边接触于基板；移动机构，使基板与所述刷子相对地移动；以及保持机构，保持所述刷子可向旋转轴的轴方向移动。
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