[发明专利]描图系统

摘要

本发明提供描图系统，从而对应于基板等的被描图体的变形而适当地修正描图位置，可对应于各种制造行程之同时，形成精度佳的描图图案。在使用DMD等的光调变组件的描图装置中，使用CCD而量测四个对准孔(M0～M3)的位置。根据藉由将预设的基准矩形(Z0)做2×2的分割而定出的基准分割区域(DV0～DV3)，以及由所量测的四个对准孔(M0～M3)所定出的变形矩形(Z)做2×2的分割而定出的变形分割区域(DM0～DM3)，算出各分割区域的偏移量、旋转角、尺寸比。然后，根据偏移量、旋转角及尺寸比而修正属于该基准分割区域的描图资料。

主权项

1.一种描图系统，该描图系统包括：光源；至少一光调变组件，其对于被描图体，根据具有基于所规定的坐标系的位置坐标的描图资料，而调变来自上述光源的照明光；量测装置，其在被描图体变形的状态下，可量测在上述被描图体上预设的构成基准矩形的顶点的四个量测用指针的位置；修正装置，其根据藉由分割上述基准矩形而定出的复数个基准分割区域以及藉由分割以所量测的上述四个量测用指针做为顶点的变形矩形而定出的矩形状复数个变形分割区域，在各基准分割区域中，修正描图资料的位置坐标而产生修正描图资料；以及描图处理装置，其控制上述光调变组件，根据修正描图资料形成描图图案，其中上述修正装置修正描图资料的位置坐标，使得根据对应于各变形分割区域的以基准分割区域为准的变形量修正矩形区域。