[发明专利]用于光刻术的反射镜阵列有效
| 申请号： | 200710126411.5 | 申请日： | 2007-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101086629A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | M·拉文斯伯根;H·M·穆尔德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种反射镜阵列装置包括用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体。至少一个执行器与各反射元件相关联，该执行器配置成可调整相关联的反射元件相对于承载体的取向或位置。该装置还包括与反射元件的至少一部分相接触的液体。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 反射 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种反射镜阵列装置，包括：用来支撑多个单独可调的反射元件的承载体；与各反射元件相关联的执行器，所述执行器用来调整相关联的反射元件相对于所述承载体的取向或位置；以及与所述反射元件的一部分相接触的液体。
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