[发明专利]微弧氧化工件真空溅镀EMI薄膜结合电泳涂装加工工艺在审

专利信息
申请号: 200710131370.9 申请日: 2007-08-28
公开(公告)号: CN101376974A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 郭雪梅;吴政道 申请(专利权)人: 汉达精密电子(昆山)有限公司
主分类号: C23C28/00 分类号: C23C28/00;C25D11/02;C23C14/34;C23C14/06;C25D13/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 21530*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种微弧氧化工件真空溅镀EMI薄膜结合电泳涂装加工工艺,其工艺流程为:选定基材→基材表面前处理→微弧氧化处理→溅镀EMI薄膜处理→电泳涂装处理,先对选定基材进行表面前处理和微弧氧化处理,得到微弧氧化工件;并对微弧氧化工件进行清洗,然后将微弧氧化工件表面上通过EMI溅镀处理镀上金属层,以使微弧氧化工件表面具有防EMI和导电性;将具导电的微弧氧化工件进行电泳涂装处理,上述工艺制程简单、量产性高且通过该工艺处理的工件兼具陶瓷、透彩和防EMI效果,具有很好的应用前景。
搜索关键词: 氧化 工件 真空 emi 薄膜 结合 电泳 加工 工艺
【主权项】:
1、一种微弧氧化工件真空溅镀EMI薄膜结合电泳涂装加工工艺,其特征在于:该工艺流程为:选定基材;基材表面前处理,将选定的基材经脱脂、超声波清洗、烘干处理;微弧氧化处理,将经过表面前处理的基材放入电解液中,进行表面微弧氧化处理,使该基材生成微弧氧化工件,且将该微弧氧化工件表面清洗,并烘干;溅镀EMI薄膜处理,将微弧氧化工件表面上通过真空溅镀处理镀上金属层,以使微弧氧化工件表面具有导电性和防EMI效果;电泳涂装处理,将具导电的微弧氧化工件进行电泳涂装处理,在微弧氧化工件表面上析出均匀、水不溶涂层。
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