[发明专利]发光装置有效
| 申请号： | 200710140964.6 | 申请日： | 2007-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN101140975A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 岸川大介;德田启祐;西内直纪 | 申请（专利权）人： | 日亚化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;H01L23/13 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种防止在发光元件周边部预先被覆/埋入的透光性被覆材的垂下，由此在适当部位可靠地配置透光性被覆材，将质量偏差抑制在最小限，成品率好的高质量的发光装置。该发光装置具有第一金属构件、载置在该第一金属构件的一端上的发光元件、和至少被覆所述发光元件的透光性被覆材，在所述第一金属构件的表面具有确定所述透光性被覆材的形成区域的凹坑，所述凹坑的内壁连续。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种发光装置，其具有第一金属构件、载置在该第一金属构件的一端的发光元件、和至少被覆所述发光元件的透光性被覆材，其特征在于，在所述第一金属构件的表面具有确定所述透光性被覆材的形成区域的凹坑，所述凹坑的内壁连续。
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