[发明专利]清洁系统无效
| 申请号： | 200710141151.9 | 申请日： | 2007-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN101269376A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 胡天镇;谢志明;赖建彰;李文景;陈达享 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B11/00 | 分类号： | B08B11/00;B08B11/02;B08B1/02 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘培坤 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种清洁系统，适用于清洁一晶片，包括一第一滚轮座、一第一夹持滚轮、一第二滚轮座、一第二夹持滚轮、一感测夹持滚轮及一清洁组件。第一夹持滚轮连接于第一滚轮座，并具有一第一环形凹槽。第二滚轮座与第一滚轮座相对。第二夹持滚轮连接于第二滚轮座，并具有一第二环形凹槽。感测夹持滚轮连接于第二滚轮座，并具有一第三环形凹槽。第三环形凹槽对应于第一环形凹槽及第二环形凹槽。清洁组件包覆第三环形凹槽。晶片的周缘定位于第一环形凹槽及第二环形凹槽之中，并抵接于清洁组件。第一夹持滚轮及第二夹持滚轮驱使晶片转动，以使晶片的周缘摩擦清洁组件。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种清洁系统，适用于清洁一晶片，包括：一第一滚轮座；至少一第一夹持滚轮，连接于该第一滚轮座，并且具有一第一环形凹槽；一第二滚轮座，与该第一滚轮座相对；至少一第二夹持滚轮，连接于该第二滚轮座，并且具有一第二环形凹槽；一感测夹持滚轮，连接于该第二滚轮座，并且具有一第三环形凹槽，其中，该第三环形凹槽对应于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽；以及一清洁组件，包覆该第三环形凹槽，其中，该晶片的周缘定位于所述第一环形凹槽及所述第二环形凹槽之中，并且抵接于该清洁组件，所述第一夹持滚轮及所述第二夹持滚轮驱使该晶片转动，以使该晶片的周缘摩擦该清洁组件。
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