[发明专利]图案形成用基材、负型抗蚀剂组合物及图案形成方法

摘要

随着微细化，要求半导体电路图案尺寸的精度接近于抗蚀剂分子尺寸，但抗蚀剂图案的边缘粗糙度导致设备性能劣化或对系统性能造成不良影响。本发明使用一种图案形成用基材，其特征在于，所述图案形成用基材为每1分子具有0个以上6个以下在酸的作用下发生化学转化、对碱性显影液的溶解性降低的官能团的化合物的混合物，在除所述官能团之外的部分，具有2个以上三苯基甲烷结构非共轭地连接的结构，所述官能团与多核酚化合物的酚羟基键合，每1分子具有0个所述官能团的多核酚化合物的重量比为15％以下，且每1分子有3个以上所述官能团的多核酚化合物的重量比为40％以下，并且与所述多核酚化合物键合的所述官能团个数平均每1分子为2.5以下。

主权项

1.一种图案形成用基材，其特征在于，所述基材是多核酚化合物的混合物，所述多核酚化合物每1分子中具有0个以上6个以下官能团，所述官能团通过酸的作用可被化学转化，从而使相对于碱性显影液的溶解性降低，所述多核酚化合物具有下述化学式(1)所示的结构，所述官能团与所述多核酚化合物的酚羟基键合，在所述官能团以外的部分2个以上三苯基甲烷结构非共轭地连接，所述混合物由多核酚化合物构成，所述多核酚化合物中，每1分子中具有0个所述官能团的多核酚化合物的重量比为15％以下，且每1分子中具有3个以上所述官能团的多核酚化合物的重量比为40％以下，且与构成所述混合物的多核酚化合物键合的所述官能团的数量平均为每1分子2.5个以下，···式(1)式(1)中，Y为氢原子、或是通过酸的作用被化学转化从而使相对于碱性显影液的溶解性降低的官能团，R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28分别为选自氢原子、碳原子数1至10的烷基或芳香族烃基中的基团，A表示连接多个三苯基甲烷结构的非共轭结构，是选自碳原子数为1～10的直链或支链烷基、或脂环族烷基中的基团。