[发明专利]光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物有效
| 申请号： | 200710146009.3 | 申请日： | 2007-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN101144979A | 公开（公告）日： | 2008-03-19 |
| 发明（设计）人： | 拉尔夫·格罗滕穆勒;沃尔夫冈·察恩;高桥修一 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料（日本）株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光致抗蚀剂用溶剂以及采用它的狭缝涂敷用光致抗蚀剂组合物。提供不降低固体成分含量、能够进行狭缝涂敷的高速涂敷的光致抗蚀剂用溶剂，以及能够通过狭缝涂敷进行高速涂敷的光致抗蚀剂组合物。该溶剂是可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物中使用的光致抗蚀剂用溶剂，其特征在于，基于该溶剂的重量，10重量％以上为20℃下粘度为1.1cp以下的低粘度溶剂。该光致抗蚀剂组合物含有上述溶剂、碱可溶性树脂以及光敏性物质。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂用 溶剂 以及 采用 狭缝 敷用 光致抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂用溶剂，为可以通过狭缝涂敷法涂敷于基板的光致抗蚀剂组合物中所用的光致抗蚀剂用溶剂，其特征在于，基于该溶剂的重量，10重量％以上为在20℃下粘度为1.1cp以下的低粘度溶剂。
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