[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 200710148595.5 申请日: 2007-08-29
公开(公告)号: CN101378043A 公开(公告)日: 2009-03-04
发明(设计)人: 汤宝云;孙伟豪 申请(专利权)人: 瀚宇彩晶股份有限公司
主分类号: H01L23/485 分类号: H01L23/485
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种具有导电凸块的电子构件或半导体装置,包含一层具有底切结构的有机缓冲层,此有机缓冲层在接合过程中可造成形变,以弥补由于凸块间的高度差,所造成的接合不良的问题;另外,在集成电路芯片与基板之间,还配置有黏着剂,其部分渗入底切结构中,不但可增加黏着的面积,以加强集成电路芯片与基板间的附着力,还可分散部分接合时的压合力,而减少集成电路芯片与基板之间所造成的黏着剂的回弹力。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1、一种电子构件,包含:集成电路芯片;接触焊盘形成在所述集成电路芯片上;保护层部分重叠在所述接触焊盘上;有机缓冲层形成在所述接触焊盘上,且所述有机缓冲层具有底切结构;第一导电层形成在所述有机缓冲层上,并连接到所述接触焊盘;以及第二导电层形成在所述第一导电层上。
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