[发明专利]电子器件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710149971.2 申请日: 2007-10-08
公开(公告)号: CN101159239A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 栗田洋一郎;副岛康志;川野连也 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L21/768;H01L23/498;H01L23/538;H05K3/46;H05K1/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 关兆辉;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种电子器件及其制造方法。该电子器件包括第一互连层和第二互连层。该第二互连层配备在该第一互连层的下表面上。该第一互连层包括通路插塞(第一导电插塞)。该第二互连层一侧上的通路插塞的端面小于相对端面。该通路插塞暴露在与该第二互连层相对的第一互连层的表面上。形成该第一互连层的绝缘树脂的热分解温度高于形成该第二互连层的绝缘树脂的热分解温度。
搜索关键词: 电子器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种制造电子器件的方法,包括:在支撑衬底上形成第一互连层;去除所述支撑衬底;以及在所述去除所述支撑衬底之后,在所述第一互连层上的初始配备了所述支撑衬底的表面上形成第二互连层;其中所述第二互连层的所述形成步骤包括在所述第一互连层中形成第一导电插塞。
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