[发明专利]一种将TiO2光催化剂负载于铁磁性金属薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 200710151159.3 申请日: 2007-12-21
公开(公告)号: CN101463470A 公开(公告)日: 2009-06-24
发明(设计)人: 范洪涛;许可;俞晓正;王莉 申请(专利权)人: 国家纳米技术与工程研究院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;B01J21/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300457天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种将TiO2光催化剂负载于铁磁性金属薄膜的方法,首先以空心微珠颗粒材料作基底,以铁磁性金属Ni或Co作溅射靶材,通过磁控溅射将金属Ni或Co均匀包覆于空心微珠表面上;再以该包覆过的空心微珠为基底材料,以金属Ti作为溅射靶材,通过溅射使已经镀有金属薄膜的微珠表面上均匀包覆一层金属Ti;然后在真空室内同时通入氩气和氧气,使Ti在溅射的同时发生氧化生成TiO2,并沉积于被金属Ni或Co包覆的空心微珠表面。本发明的优点是:通过在空心微珠表面沉积铁磁性金属材料,使以此材料为基底制备的TiO2光催化薄膜材料能够被磁性收集器吸引,便于使用后的集中回收,重复利用,节约资源,避免对环境的二次污染。
搜索关键词: 一种 tio sub 光催化剂 负载 铁磁性 金属 薄膜 方法
【主权项】:
1. 一种将TiO2光催化剂负载于铁磁性金属薄膜的方法,采用微颗粒磁控溅射镀膜设备制备,其特征在于:首先以空心微珠颗粒材料作基底,以铁磁性金属Ni或Co为溅射靶材,通过向真空室内充入氩气并采用直流、射频或者脉冲溅射,将金属Ni或Co均匀包覆于空心微珠表面上;再以金属Ni或Co包覆过的空心微珠为基底材料,以金属Ti作为溅射靶材,向真空室内通入氩气,采用直流溅射使已经镀有金属薄膜的微珠表面上均匀包覆一层金属Ti;然后打开氧气控制阀,向真空室中通入氧气,在溅射金属Ti的同时使Ti与真空室内的氧气发生反应生成TiO2,并沉积于被铁磁性金属Ni或Co包覆的空心微珠表面。
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