[发明专利]基片组合设备和方法

摘要

基片组合设备和方法使用由于重力而导致的下降和由于压力差而导致的吸收。基片组合设备包括：真空室，其内部压力通过对闸阀的操作来控制；上基板，用于通过真空吸收将基片安装在真空室内部的顶部上；以及下基板，用于将上表面施加了密封材料的基片固定于真空室内部的底部。所述上基板包括基片下落装置，其使基片下降。

主权项

1.一种基片组合设备，包括：真空室，至少两个上基片和至少两个下基片可被插入到其中；在真空室内部的顶部上提供的上基板，用于在其上安装至少两个上基片而没有重叠并且从其可分离地拆卸上基片；在真空室内部的底部上提供的下基板，用于在其上安装至少两个下基片而没有重叠；基片位置校正装置，用于校正在上或下基板上安装的上或下基片的位置以使上和下基片的位置相互一致；真空装置，用于在真空室中形成真空状态；以及组合装置，用于在相对的方向上将压力施加给上和下基片以使上和下基片被相互组合。