[发明专利]浸润微影设备与浸润曝光方法无效
| 申请号： | 200710153191.5 | 申请日： | 2007-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101174101A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 林本坚;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人： | 潘培坤 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种使用一密封晶片底部的浸润微影系统与方法。一实施例提供一种浸润微影设备，包括：一镜头组(assembly)，包括一影像镜头；及一晶片基座，用于将晶片保持于该镜头组下方，该晶片基座包括置于一密封环框架上且沿着保持于该晶片基座上的该晶片的一顶部边缘的一密封环。此实施例更包括：一流体槽，用于保持浸润流体，其中流体槽包括该晶片基座以使保持在该晶片基座上的该晶片完全浸润于该浸润流体中；以及一外盖，置于该流体槽的至少一个部分，用以在该流体槽内提供一个温度控制且富含流体的环境。 | ||
| 搜索关键词： | 浸润 设备 曝光 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸润微影设备，包括：一镜头组，包括一影像镜头；一晶片基座，用于将晶片保持于该镜头组下方，该晶片基座包括置于一密封环框架上且沿着保持于该晶片基座上的该晶片的一顶部边缘的一密封环；一流体槽，用于保持浸润流体，其中流体槽容纳该晶片基座以使保持在该晶片基座上的该晶片完全浸润于该浸润流体中；以及一外盖，置于该流体槽的至少一个部分，用以在该流体槽内提供一个温度受到控制且富含流体的环境。
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