[发明专利]磁头滑块及其制造方法和用于该磁头滑块的研磨装置无效

专利信息
申请号: 200710154067.0 申请日: 2007-09-13
公开(公告)号: CN101174417A 公开(公告)日: 2008-05-07
发明(设计)人: 尾关雅博 申请(专利权)人: 富士通株式会社
主分类号: G11B5/31 分类号: G11B5/31;G11B21/21;G11B5/60;B24B19/26
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种磁头滑块及其制造方法和用于该磁头滑块的研磨装置。该磁头滑块包括覆盖在滑块体的流出端表面上的非磁性绝缘膜。在所述非磁性绝缘膜的表面上覆盖有第二保护膜。在所述非磁性绝缘膜中嵌入有用于引起所述非磁性绝缘膜的突起的加热器。在所述突起的梢端处在所述第二保护膜上形成有平坦的被研磨面。在所谓的零校准过程中,所述被研磨面与存储介质相接触的面积较大。因此每单位面积的推力减小。这导致所述突起的磨损最小化。所述被研磨面瞬时粘住存储介质的表面。这导致所述磁头滑块产生轻微的振动。可以响应于该振动而可靠地检测到所述磁头滑块与存储介质之间的接触。
搜索关键词: 磁头 及其 制造 方法 用于 研磨 装置
【主权项】:
1.一种驱动器,该驱动器包括:滑块体,其具有介质相对表面;非磁性绝缘膜,其覆盖在所述滑块体的流出端表面上;轨道,其形成在所述滑块体的所述介质相对表面上,该轨道延伸到达所述滑块体的流出端;第一保护膜,其覆盖在所述轨道的顶面上,该第一保护膜具有非研磨面;第二保护膜,其与所述第一保护膜相连续地形成,该第二保护膜在所述轨道的下游位置处覆盖在所述非磁性绝缘膜的表面上;磁头元件,其在所述轨道的下游位置处嵌入在所述非磁性绝缘膜中;加热器,其嵌入在所述非磁性绝缘膜中,该加热器与所述磁头元件相关联;以及凹陷部,其至少部分地限定在所述第二保护膜上,该凹陷部与所述加热器相关联。
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