[发明专利]晶片加工方法有效
申请号: | 200710167557.4 | 申请日: | 2007-10-26 |
公开(公告)号: | CN101174547A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 根岸克治 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/78;H01L21/301;H01L21/66;B28D5/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种晶片加工方法,使得即使对切削结束了的晶片的切削状态进行检查也不会降低生产率。通过第1、第2吸盘工作台来进行如下处理:由于吸盘工作台有两个,因而在对保持于另一个吸盘工作台上的晶片进行切削的切削工序之中执行对切削结束了的晶片的切割槽的宽度状态和缺陷状态等的切削状态进行检查的检查工序,从而不用牺牲吞吐量就能检查晶片的切削状态,可以提高经过了切削加工的晶片的生产率。 | ||
搜索关键词: | 晶片 加工 方法 | ||
【主权项】:
1.一种晶片加工方法,该晶片加工方法使用切削装置,该切削装置具有:保持晶片的吸盘工作台;安装有切削刀具的切削部,该切削刀具对保持于该吸盘工作台上的晶片进行切削;使上述吸盘工作台在X轴方向上进行加工进给的加工进给部;使上述切削部在与X轴方向正交的Y轴方向上进行分度进给的分度进给部;载置有容纳有多个晶片的盒的盒台;从上述盒中取出晶片的取出部;暂时放置所取出的晶片的暂时放置台;将暂时放置在该暂时放置台上的晶片输送到上述吸盘工作台的输送部;以及对保持于上述吸盘工作台上的晶片进行摄像来检测应切削的区域的对准部,上述吸盘工作台由彼此相邻配设的第1吸盘工作台和第2吸盘工作台构成,上述加工进给部由下列部分构成:使上述第1吸盘工作台进行加工进给的第1加工进给部;以及使上述第2吸盘工作台进行加工进给的第2加工进给部,该晶片的工方法的特征在于,其具有如下工序,晶片保持工序:通过上述输送部,将从上述盒取出到上述暂时放置台上的晶片,输送到上述第1吸盘工作台和上述第2吸盘工作台上进行保持;对准工序:将保持在上述第1吸盘工作台和上述第2吸盘工作台上的晶片,定位在上述对准部的正下方,检测应切削的区域;第1切削工序:使上述切削部的上述切削刀具定位在保持于上述第1吸盘工作台或者上述第2吸盘工作台且上述对准工序已执行完的晶片上,对晶片进行切削;第2切削工序:当该第1切削工序结束之后,将上述切削部的上述切削刀具定位在保持于上述第1吸盘工作台或者上述第2吸盘工作台且上述对准工序已执行完但没有被切削的晶片上,对晶片进行切削;以及检查工序:当上述第1切削工序结束之后,在上述第2切削工序进行之中,将在上述第1切削工序中切削完并保持于上述第1吸盘工作台或者上述第2吸盘工作台上的晶片定位在上述对准部的正下方来检查切削状态。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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