[发明专利]等离子处理装置无效
| 申请号： | 200710168159.4 | 申请日： | 2005-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101203086A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | 申寅澈;张圣基;金兑昱;柳炅昊;郑修然 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子处理装置，其特征在于，包括流入工序气体的气体流入部、和将通过上述气体流入部流入的工序气体利用一对上部电极和下部电极进行放电而对基板进行等离子处理的等离子源，在所述上部电极和下部电极中的至少一个的表面形成有氧化被膜。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子处理装置，其特征在于，包括流入工序气体的气体流入部、和将通过上述气体流入部流入的工序气体利用一对上部电极和下部电极进行放电而对基板进行等离子处理的等离子源，在所述上部电极和下部电极中的至少一个的表面形成有氧化被膜。
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