[发明专利]电子元件、使用其的半导体器件以及制造电子元件的方法有效
申请号: | 200710182106.8 | 申请日: | 2007-06-15 |
公开(公告)号: | CN101136383A | 公开(公告)日: | 2008-03-05 |
发明(设计)人: | 原田惠充;青柳哲理;浅见博 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H01L23/485 | 分类号: | H01L23/485;H01L21/60 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种电子元件、使用其的半导体器件以及制造电子元件的方法。该电子元件具有在该其中形成暴露部分垫电极的开口的钝化层、形成于该垫电极和钝化层之上的下金属层、以及形成于下金属层上的隔离金属层用于外部连接电极,该电子元件还包括配置在开口外部或/和内部的隔离金属层下面的凹槽或/和突起,该下金属层形成在凹槽或/和突起上且具有与凹槽或/和突起相应的表面形状。 | ||
搜索关键词: | 电子元件 使用 半导体器件 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电子元件,包括:在其中形成有暴露部分垫电极的开口的钝化层;形成在所述垫电极和钝化层上的下金属层;以及形成在所述下金属层上用于外部连接电极的隔离金属层,所述电子元件还包括:配置在所述开口的外部或/和内部的隔离金属层下面的凹槽或/和突起,所述下金属层形成在所述凹槽或/和突起上并具有与所述凹槽或/和突起相一致的表面形状。
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