[发明专利]显示元件及其制造方法

摘要

一种显示元件及其制造方法，该方法包括提供基板，该基板具有薄膜晶体管区、像素区、栅极线区与数据线区；依序形成透明导电层与第一金属层于基板上，并对其图案化，以分别于薄膜晶体管区、像素区、栅极线区与数据线区的末端内形成导电叠层；依序形成第一绝缘层与半导体层于基板上并覆盖导电叠层，再对其图案化后于薄膜晶体管区的导电叠层上形成图案化第一绝缘层与图案化半导体层；形成第二金属层于基板上，并覆盖图案化半导体层与导电叠层，并形成第一光致抗蚀剂层于第二金属层上；以第一光致抗蚀剂层为掩模图案化第二金属层与第一金属层，其中在薄膜晶体管区中形成沟道。之后，对第一光致抗蚀剂层进行热回流使部分的第一光致抗蚀剂层保护沟道。

主权项

1.一种显示元件的制造方法，包括：提供一基板，该基板具有一薄膜晶体管区、一像素区、一栅极线区与一数据线区；依序形成一透明导电层与一第一金属层于该基板上；图案化该透明导电层与该第一金属层，以分别于该薄膜晶体管区、该像素区、该栅极线区与该数据线区的末端内形成一导电叠层，其中该导电叠层包括该透明导电层与该第一金属层；依序形成一第一绝缘层与一半导体层于该基板上，并覆盖该导电叠层；图案化该第一绝缘层与该半导体层，以于该薄膜晶体管区的该导电叠层上形成一图案化第一绝缘层与一图案化半导体层；形成一第二金属层于该基板上，并覆盖该图案化半导体层与该导电叠层；形成一第一光致抗蚀剂层于该第二金属层上；以该第一光致抗蚀剂层为掩模图案化该第二金属层与该第一金属层，其中在该薄膜晶体管区中形成一沟道；以及对第一光致抗蚀剂层进行热回流，使部分的该第一光致抗蚀剂层保护该沟道。