[发明专利]光刻方法有效
| 申请号： | 200710188644.8 | 申请日： | 2007-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101187784A | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 桂成群;鲁迪·詹·玛丽·佩伦斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在至少部分涂覆有抗蚀剂的衬底上形成环形密封的光刻方法，所述光刻方法包括步骤：以深紫外辐射辐射衬底上的抗蚀剂环。所述抗蚀剂环被辐射以从抗蚀剂环上去除图案，或者防止经过辐射的抗蚀剂环被图案化。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在至少部分涂覆有抗蚀剂的衬底上形成环形密封的方法，所述方法包括步骤：以深紫外辐射辐射衬底上的抗蚀剂环。
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