[发明专利]一种含钽的SiC陶瓷先驱体的合成方法无效

专利信息
申请号: 200710192459.6 申请日: 2007-11-30
公开(公告)号: CN101186504A 公开(公告)日: 2008-05-28
发明(设计)人: 谢征芳;曹淑伟;王军;王浩;薛金根;牛加新 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科学技术大学
主分类号: C04B35/571 分类号: C04B35/571
代理公司: 长沙星耀专利事务所 代理人: 宁星耀
地址: 410073湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 一种含钽的SiC陶瓷先驱体的合成方法,其包括以下步骤:(1)将主链含硅的低分子量聚合物置于三口烧瓶中,并加入0.5wt%-20wt%的钽金属有机化合物或氯化物;(2)在Ar或N2或它们的混合物保护下,三口烧瓶升至350-500℃,裂解柱温度控制在450℃-550℃,进行热分解重排反应0.5-25h,冷却;(3)将所得粗产品经二甲苯溶解、过滤,滤液在250℃-390℃进行减压蒸馏,冷却。本发明原料来源广泛,反应过程易于控制,设备简单,产物纯度高,再成型性好,耐超高温及吸波性能优异;用以制得的陶瓷纤维抗氧化性能优异;容易实现大规模工业化生产。
搜索关键词: 一种 sic 陶瓷 先驱 合成 方法
【主权项】:
1.一种含钽的SiC陶瓷先驱体的合成方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将软化点为80℃-450℃主链含硅的低分子量聚合物置于三口烧瓶中,并加入相当于低分子量聚合物质量0.5wt%-20wt%的钽金属有机化合物或氯化物;(2)利用本发明者研制的常压高温裂解装置,在Ar或N2或它们的混合物保护下,按照0.1℃-5℃/min升温速率,三口烧瓶升至350℃-500℃,裂解柱温度控制在450℃-550℃,进行热分解重排反应,反应时间0.5h-25h,冷却后得PTCS粗产品;(3)将该粗产品经二甲苯溶解、过滤,滤液在250℃-390℃进行减压蒸馏,冷却后即得黑色树脂状状PTCS。
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