[发明专利]动态随机存取存储器元件有效
申请号: | 200710193471.9 | 申请日: | 2007-11-27 |
公开(公告)号: | CN101447487A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 任兴华 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/108 | 分类号: | H01L27/108 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种动态随机存取存储器周边电路的晶体管元件,包括有一半导体基底,其上形成有一栅极沟渠;一凹入式栅极,嵌入于该栅极沟渠中;一源极掺杂区,设于该凹入式栅极一侧的该半导体基底中;一漏极掺杂区,设于该凹入式栅极另一侧的该半导体基底中;及一栅极氧化层,介于该凹入式栅极与该半导体基底之间,该栅极氧化层具有至少两种不同的厚度,呈现出一种独特的不对称结构,其中厚度较厚的该栅极氧化层位于该凹入式栅极与该漏极掺杂区之间,而厚度较薄的该栅极氧化层则是位于该凹入式栅极与该源极掺杂区之间。 | ||
搜索关键词: | 动态 随机存取存储器 元件 | ||
【主权项】:
1. 一种动态随机存取存储器元件,包括有:半导体基底,该半导体基底包括有存储器阵列区域和周边电路区域,该存储器阵列区域设有第一凹入式栅极而该周边电路区域设有第二凹入式栅极,其中该第一凹入式栅极和该第二凹入式栅极皆嵌入于该半导体基底中;第一栅极氧化层,介于该第一凹入式栅极和该半导体基底之间,该第一栅极氧化层具有均匀厚度;以及第二栅极氧化层,介于该第二凹入式栅极和该半导体基底之间,该第二栅极氧化层具有非均匀厚度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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