[发明专利]基板处理装置的控制装置、控制方法和存储有控制程序的存储介质有效
申请号: | 200710194605.9 | 申请日: | 2007-11-27 |
公开(公告)号: | CN101192055A | 公开(公告)日: | 2008-06-04 |
发明(设计)人: | 沼仓雅博 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G05B19/04 | 分类号: | G05B19/04;H01L21/67;H01L21/68 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供基板处理装置的控制装置、控制方法和存储有控制程序的存储介质。根据每批次所要求的微细加工的程度,对晶片的搬送进行控制。基板处理装置包括对晶片实施规定处理的多个PM和内置有搬送晶片的搬送机构的LLM。EC对基板处理装置进行控制。EC的选择部选择接下来应该将晶片搬送到的PM,并且根据每批次所要求的微细加工的程度,针对每批次选择使搬送到同一PM的晶片的单位为1批次单位或1晶片单位中的任一个。EC的搬送控制部,在选择批次单位的搬送的情况下,将该批次中包含的晶片依次搬送到被选择的同一PM,在选择晶片单位的搬送的情况下,将该批次中包含的各晶片从被选择的PM一块一块地依次OR搬送到其它的PM。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 控制 方法 存储 控制程序 介质 | ||
【主权项】:
1.一种控制装置,对基板处理装置进行控制,该基板处理装置包括对基板进行规定处理的多个处理室和搬送所述基板的搬送机构,其特征在于,包括:选择部,选择接下来应该搬送到的处理室,并且根据每批次所要求的微细加工的程度,针对每个批次选择使搬送到同一处理室的基板的单位为1批次单位或者1基板单位中的任一个;和搬送控制部,将由所述选择部选择的单位中包含的基板依次搬送到由所述选择部选择的处理室中。
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