[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 200710198993.8 申请日: 2007-12-11
公开(公告)号: CN101236889A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 岸本卓也;宫胜彦 申请(专利权)人: 大日本网目版制造株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;B08B3/04;C03C23/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 徐恕
地址: 日本京都*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供基板处理装置及方法,能从喷嘴插入孔排除由基板表面周边部位附着到喷嘴插入孔中的处理液的液滴,避免受到液滴的不良影响而对基板表面周边部位进行良好的处理。开口部(521)中位于相对插入喷嘴插入孔(52)的喷嘴(3)的液喷出方向X侧的部位(531)向液喷出方向X侧扩张。移到喷嘴插入孔(52)的液滴(DL)经扩张部位(531)附到相对喷嘴(3)的液喷出方向X侧的内壁面即倾斜部位(532)。倾斜部位(532)从喷嘴插入孔(52)的中央部向扩张部位(531)倾斜并远离基板(W)的表面中央部位侧;故附着的液滴(DL)沿倾斜部位(532)流向液喷出方向X侧,从喷嘴插入孔(52)的开口部(521)排出。
搜索关键词: 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
1.一种基板处理装置,向基板的表面周边部位供给处理液,对该表面周边部位实施给定的表面处理,其特征在于,包括:基板保持装置,其以将基板表面朝上的状态对该基板进行保持;对置部件,其与所述基板保持装置所保持的基板的表面相向并隔开一定距离而配置,而且设置有喷嘴插入孔,该喷嘴插入孔在与所述基板表面相向的基板对置面上具有开口部;喷嘴,其在插入到所述喷嘴插入孔中的状态下沿着从所述喷嘴插入孔朝向所述基板的表面周边部位的液喷出方向喷出所述处理液,将所述处理液供给到所述表面周边部位,在所述喷嘴插入孔中设置有导引机构,该导引机构在所述开口部附近将附着在所述喷嘴插入孔中的所述处理液的液滴向所述液喷出方向一侧引导。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大日本网目版制造株式会社,未经大日本网目版制造株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710198993.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top