[发明专利]硬涂薄膜的制造方法、硬涂薄膜、偏振片和图像显示装置无效

专利信息
申请号: 200710199174.5 申请日: 2007-12-18
公开(公告)号: CN101204697A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 新纳铁平;鹰尾宽行;楠本诚一;滨本大介;重松崇之 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: B05D7/24 分类号: B05D7/24;B05D1/38;B05C11/02;C09D175/14;B32B27/08;B32B27/20;B32B33/00;G02B5/30
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供连续生产率优异的硬涂薄膜的制造方法,其能够在不增加工序数的情况下使用简易的制造装置、以简便的方法防止硬涂薄膜发生卷曲和折断,能够制造平坦且高硬度的硬涂薄膜。该制造方法是在透明塑料薄膜基材(1)的至少一个表面上具有硬涂层(2)的硬涂薄膜(3)的制造方法,其中准备包含硬涂树脂和溶剂的硬涂层形成材料,在上述透明塑料薄膜基材(1)的至少一个表面上涂布上述硬涂层形成材料而形成涂膜,通过使上述涂膜固化,从而形成上述硬涂层(2)。在上述准备和涂膜形成中的至少一个工序中,将上述硬涂层厚度(A)和上述透明塑料薄膜基材厚度(B)之比(A/B)调整为1/2.6以上的范围。
搜索关键词: 薄膜 制造 方法 偏振 图像 显示装置
【主权项】:
1.一种硬涂薄膜的制造方法,该硬涂薄膜是在透明塑料薄膜基材的至少一个表面上具有硬涂层,该硬涂薄膜的制造方法包含下述工序:准备包含硬涂树脂和溶剂的硬涂层形成材料的准备工序;在所述透明塑料薄膜基材的至少一个表面上涂布所述硬涂层形成材料而形成涂膜的涂膜形成工序;和通过使所述涂膜固化,从而形成所述硬涂层的硬涂层形成工序;其中调整所述硬涂层厚度A和所述透明塑料薄膜基材厚度B中的至少一个以使得所述硬涂层厚度A和所述透明塑料薄膜基材厚度B之比A/B为1/2.6以上的范围。
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