[发明专利]光掩模及薄膜晶体管基板的制造方法

摘要

本发明公开了一种光掩模及薄膜晶体管基板的制造方法。光掩模用以制造一薄膜晶体管基板。光掩模具有一第一曝光区、一第二曝光区及一第三曝光区。第二曝光区位于第一曝光区及第三曝光区之间。光掩模包括一第一周边线路图案、一第一虚拟引线图案、一第一重合像素图案及一第二重合像素图案。第一周边线路图案位于第一曝光区。第一虚拟引线图案位于第一曝光区，并邻接于第一周边线路图案。第一重合像素图案位于第一曝光区，并邻接于第一虚拟引线图案。第二重合像素图案位于第二曝光区，第一重合像素图案与第二重合像素图案互补。其中第一重合像素图案与第二重合像素图案重迭曝光后，第一曝光区与第二曝光区所曝光的图案相互接合。

主权项

1.一种光掩模，用以制造一薄膜晶体管基板，该光掩模具有一第一曝光区、一第二曝光区及一第三曝光区，该第二曝光区位于该第一曝光区及该第三曝光区之间，其特征在于，该光掩模包括：一第一周边线路图案，位于该第一曝光区；一第一虚拟引线图案，位于该第一曝光区，并邻接于该第一周边线路图案；一第一重合像素图案，位于该第一曝光区，并邻接于该第一虚拟引线图案；以及一第二重合像素图案，位于该第二曝光区，该第一重合像素图案与该第二重合像素图案互补，其中该第一重合像素图案与该第二重合像素图案重迭曝光后，该第一曝光区与该第二曝光区所曝光的图案相互接合。