[实用新型]薄膜应力测量装置无效
申请号: | 200720068607.9 | 申请日: | 2007-04-03 |
公开(公告)号: | CN201043921Y | 公开(公告)日: | 2008-04-02 |
发明(设计)人: | 申雁鸣;袁磊;邵淑英;范正修;贺洪波;易葵;邵建达 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | G01L1/00 | 分类号: | G01L1/00;G01B11/255 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 张泽纯 |
地址: | 201800上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种薄膜应力测量装置,该装置包括激光器、供待测基片设置的精密电动导轨及其控制器、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机,所述的激光器、精密电动导轨、光电位敏探测器和A/D数据采集卡安装在一平台上,所述的激光器发出的光束照射到待测基片表面,在待测基片的反射光束方向是光电位敏探测器,该光电位敏探测器的输出端经所述的A/D数据采集卡与所述的计算机的输入端相连。本实用新型具有结构简单、精确度高、非接触测量、操作简便、价格低廉等特点。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 应力 测量 装置 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜应力测量装置,其特征在于该装置包括激光器(1)、供待测基片(2)设置的精密电动导轨(6)及其控制器(7)、光电位敏探测器(3)、A/D数据采集卡(4)和计算机(5),所述的激光器(1)、精密电动导轨(6)、光电位敏探测器(3)和A/D数据采集卡(4)安装在一平台(8)上,所述的激光器(1)发出的光束照射到待测基片(2)表面,在待测基片(2)的反射光束方向是光电位敏探测器(3),该光电位敏探测器(3)的输出端经所述的A/D数据采集卡(4)与所述的计算机(5)的输入端相连。
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