[发明专利]气密密封用盖、电子器件收纳用封装体和气密密封用盖的制造方法有效

专利信息
申请号: 200780000497.5 申请日: 2007-02-13
公开(公告)号: CN101322242A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 田中刚;山本雅春 申请(专利权)人: 株式会社新王材料
主分类号: H01L23/02 分类号: H01L23/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种气密密封用盖,能够抑制制造过程复杂化,并且抑制焊料层在密封面上向内侧浸润扩展。该气密密封用盖(1、30)包括:基材(2);在基材的表面上形成的第一镀层(3、31);和在第一镀层的表面上形成的,比第一镀层更难氧化的第二镀层(4、32),接合有电子器件收纳部件的区域(S2、S6)的内侧的区域(S1、S5)的第二镀层的一部分被除去,露出第一镀层的表面,并且在已去除第二镀层的区域露出的第一镀层的表面被氧化。
搜索关键词: 气密 密封 电子器件 收纳 封装 制造 方法
【主权项】:
1.一种气密密封用盖,是在包括用于收纳电子器件(10)的电子器件收纳部件(20)的电子器件收纳用封装体中使用的气密密封用盖(1、30),其特征在于,包括:基材(2);在所述基材的表面上形成的第一镀层(3、31);和在所述第一镀层的表面上形成的、比所述第一镀层更难氧化的第二镀层(4、32),接合有所述电子器件收纳部件的区域(S2、S6)的内侧的区域(S1、S5)的所述第二镀层的至少一部分被除去,露出所述第一镀层的表面,并且,在已去除所述第二镀层的区域露出的所述第一镀层的表面被氧化。
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