[发明专利]气密密封用盖、电子器件收纳用封装体和气密密封用盖的制造方法有效
申请号: | 200780000497.5 | 申请日: | 2007-02-13 |
公开(公告)号: | CN101322242A | 公开(公告)日: | 2008-12-10 |
发明(设计)人: | 田中刚;山本雅春 | 申请(专利权)人: | 株式会社新王材料 |
主分类号: | H01L23/02 | 分类号: | H01L23/02 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种气密密封用盖,能够抑制制造过程复杂化,并且抑制焊料层在密封面上向内侧浸润扩展。该气密密封用盖(1、30)包括:基材(2);在基材的表面上形成的第一镀层(3、31);和在第一镀层的表面上形成的,比第一镀层更难氧化的第二镀层(4、32),接合有电子器件收纳部件的区域(S2、S6)的内侧的区域(S1、S5)的第二镀层的一部分被除去,露出第一镀层的表面,并且在已去除第二镀层的区域露出的第一镀层的表面被氧化。 | ||
搜索关键词: | 气密 密封 电子器件 收纳 封装 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种气密密封用盖,是在包括用于收纳电子器件(10)的电子器件收纳部件(20)的电子器件收纳用封装体中使用的气密密封用盖(1、30),其特征在于,包括:基材(2);在所述基材的表面上形成的第一镀层(3、31);和在所述第一镀层的表面上形成的、比所述第一镀层更难氧化的第二镀层(4、32),接合有所述电子器件收纳部件的区域(S2、S6)的内侧的区域(S1、S5)的所述第二镀层的至少一部分被除去,露出所述第一镀层的表面,并且,在已去除所述第二镀层的区域露出的所述第一镀层的表面被氧化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社新王材料,未经株式会社新王材料许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200780000497.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:宫颈癌筛查酶联免疫吸附检测试剂盒
- 下一篇:打火机