[发明专利]基板处理装置无效
| 申请号： | 200780000873.0 | 申请日： | 2007-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN101341537A | 公开（公告）日： | 2009-01-07 |
| 发明（设计）人： | 泷泽洋次;西垣寿 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;B29C45/17;B29L17/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 何腾云 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种不受放置时间的左右、不向基板施加过度的力就可进行均匀处理的基板处理装置。其具有保持成型后的基板(1)的保持部(2)以及设置在被保持在保持部(2)上的基板(1)附近的整流部(3)。整流部(3)具有与基板(1)的一方的面接近相对的相对部(33)、将冷却气体(G)导入相对部(33)和基板(1)之间的导入部(32)以及使相对部(33)旋转的驱动部。在相对部(33)上形成凸片(34)。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其特征在于，具有保持基板的保持部、以及设置在由所述保持部保持的基板附近的整流部，所述整流部具有：至少与基板的一方的面接近、相对的相对部；和导入部，该导入部将处理用介质导入由所述保持部以不旋转的方式保持的所述基板和所述相对部之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芝浦机械电子装置股份有限公司，未经芝浦机械电子装置股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200780000873.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
