[发明专利]导电性非电解电镀粉体及其制造方法有效
申请号: | 200780011903.8 | 申请日: | 2007-03-19 |
公开(公告)号: | CN101415863A | 公开(公告)日: | 2009-04-22 |
发明(设计)人: | 小山田雅明;阿部康弘 | 申请(专利权)人: | 日本化学工业株式会社 |
主分类号: | C23C18/31 | 分类号: | C23C18/31;C23C18/18;C23C28/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的是提供不使用造成污染环境的铬酸和高锰酸等,特别即使是平均粒径20μm以下的微粒也具有优异的电镀密合性的导电性非电解电镀粉体以及在工业上有利的制造方法。本发明的导电性非电解电镀粉体的特征在于,用三聚氰胺树脂对芯材粉体的表面进行覆盖处理,再通过非电解电镀形成金属膜,其制造方法的特征在于,包括:使芯材粉体与三聚氰胺树脂的初期缩合物接触,进行该初期缩合物的聚合反应,得到覆盖有三聚氰胺树脂的芯材粉体的工序;接着,在覆盖有该三聚氰胺树脂的芯材粉体的表面上载持贵金属的工序;接着,对载持有该贵金属的芯材粉体进行非电解电镀处理的工序。 | ||
搜索关键词: | 导电性 电解 电镀 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1. 一种导电性非电解电镀粉体,其特征在于:用三聚氰胺树脂对芯材粉体的表面进行覆盖处理,再通过非电解电镀形成金属膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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