[发明专利]杂环巯基化合物的生产方法有效
| 申请号： | 200780019825.6 | 申请日： | 2007-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101454282A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 万谷慎一;青木英雅 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | C07D207/26 | 分类号： | C07D207/26;C07D223/10;C07D307/30;C07D333/34 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的方法使用易得的原材料，高产量和高产率地在工业上生产用作药物或杀虫剂合成中的原材料或中间物、或用作烫发剂的杂环巯基化合物。如下制备式(1)所示的杂环巯基化合物(其中X表示-O-、-S-、-NH-和-NR1-中的任何结构；R1表示各具有1至6个碳原子的烷基、烷氧基和烷氧基烷基中的任何基团；Y表示氧原子、硫原子或-NR2-；R2表示氢原子或具有1至6个碳原子的烷基；Z1表示具有至少一个巯基的二价有机残基)：在存在溶剂的情况下在7.0至11.0的pH值使金属硫化物或金属氢硫化物与式(2)所示的化合物(其中X和Y与式(1)中定义相同；Z2表示具有至少一个卤素基团的二价有机残基)反应。 | ||
| 搜索关键词： | 巯基 化合物 生产 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种制备式(1)所示的杂环巯基化合物的方法：其中X表示-O-、-S-、-NH-和-NR1-中的任何结构；R1表示各具有1至6个碳原子的烷基、烷氧基和烷氧基烷基中的任何基团；Y表示氧原子、硫原子或-NR2-；R2表示氢原子或具有1至6个碳原子的烷基；Z1表示具有至少一个巯基的二价有机残基，该方法包括在存在溶剂的情况下在7.0至11.0的pH值使金属硫化物或金属氢硫化物与式(2)所示的化合物反应：其中X和Y与式(1)中定义相同；Z2表示具有至少一个卤素基团的二价有机残基。
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