[发明专利]涂敷、显影装置和涂敷、显影装置的控制方法及存储介质有效
申请号: | 200780033871.1 | 申请日: | 2007-09-11 |
公开(公告)号: | CN101517703A | 公开(公告)日: | 2009-08-26 |
发明(设计)人: | 林田安;原圭孝;金子知广 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;G03F7/30 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种技术,该技术能够减少基板在检查模块上滞留的时间,从而能够提高涂敷、显影装置的生产能力。在将在处理站接受过处理的基板交接给载体站的检查站中,设置有检查所需的时间彼此不同的多个检查模块;暂时滞留基板的缓冲单元;和其动作通过控制部被控制的基板搬送机构,在检查模块进行基板的处理的期间,后续的成为该检查模块的检查对象的基板通过上述基板搬送机构被搬送至缓冲单元,并使其滞留于该缓冲单元,由此能够抑制检查模块中的基板的滞留,实现生产能力的提高。 | ||
搜索关键词: | 涂敷 显影 装置 控制 方法 存储 介质 | ||
【主权项】:
1、一种涂敷、显影装置,其特征在于,包括:载体站,其用于载置收纳有多个基板的载体,并设置有与载体之间进行基板的交接的第一基板搬送机构;处理站,其包括对从所述第一基板搬送机构交接到的基板进行抗蚀剂的涂敷、对被涂敷抗蚀剂且被曝光后的基板进行显影、或进行其前后的处理的多个处理模块,和相对于这些处理模块依次搬送基板的第二基板搬送机构;用于放置在该处理站中已完成显影的基板的第一交接部;基板通过所述载体站的第一基板搬送机构被取走的第二交接部;检查站,其包括:对已完成显影的基板进行检查,且检查所需的时间相互不同的多个检查模块;暂时滞留基板的缓冲单元;和与缓冲单元、所述第一交接部、第二交接部、检查模块之间进行基板的交接的第三基板搬送机构,该检查站将在处理站中被处理后的基板交接给载体站;和控制所述第三基板搬送机构的控制部,其中,所述控制部具备以下功能,在搬送所述第一交接部的基板时,执行以下步骤:(a1)判断该基板是否为检查对象的基板;(a2)如果不是检查对象的基板,则将该基板搬送至第二交接部;(a3)如果是检查对象的基板,则判断进行检查的检查模块是否空闲,如果空闲,则搬送至该检查模块,另一方面,如果不空闲,则搬送至缓冲单元,在搬送检查站内的模块的基板时,执行下述步骤:(b1)判断分配给该基板的检查是否已全部结束;(b2)如果检查已结束,则将该基板搬送至所述第二交接部;(b3)如果检查未结束,则判断未结束的检测模块是否空闲,如果空闲,则搬送至该检查模块,另一方面,如果不空闲,则使其位于缓冲单元内。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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