[发明专利]辐射系统和包括辐射系统的光刻设备有效
| 申请号： | 200780035599.0 | 申请日： | 2007-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101583909A | 公开（公告）日： | 2009-11-18 |
| 发明（设计）人： | M·M·J·W·范赫彭;V·Y·拜尼恩;J·C·L·弗兰肯;O·W·V·弗吉恩斯;D·J·W·克朗德尔;N·M·德里森;W·A·索尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置(1)。该装置包括光学传感器，该传感器包括传感器表面(3)和构造用于从传感器表面去除碎片(6)的去除机构(5)。因而，可以对光刻系统方便地实施剂量和/或污染物测量。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 包括 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用在极紫外光刻系统中的光学传感器装置，所述光学传感器装置包括：光学传感器，所述光学传感器包括传感器表面；和去除机构，所述去除机构构造用于从所述传感器表面去除碎片。
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