[发明专利]清洁方法、设备和清洁系统有效
| 申请号： | 200780037980.0 | 申请日： | 2007-09-25 |
| 公开（公告）号： | CN101529337A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | D·H·厄姆;J·H·J·莫尔斯;B·T·沃尔斯克利基恩;M·G·H·梅杰里恩克;T·斯蒂恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;卡尔蔡斯SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用以清洁设备的光学元件的方法，该设备构建成将辐射束投影到衬底的目标部分上，该设备包括按序列设置在辐射束路径上的多个光学元件，其中清洁方法包括：使用比该序列中一个或更多个第一光学元件的累积清洁时间段更短的累积清洁时间段清洁该序列中的一个或更多个第二光学元件，第二光学元件在该设备运行过程中接收一个或更多个相对低的第二辐射剂量，第一光学元件在该设备运行过程中接收一个或更多个第一辐射剂量，第二辐射剂量低于每一个相对高的第一辐射剂量。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 方法 设备 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用以清洁设备的一个或更多个光学元件的方法，所述设备构建成将辐射束投影到衬底的目标部分上，并且包括按序列排列在所述辐射束路径上的多个光学元件，其中所述方法包括步骤：使用比所述序列中第一光学元件的累积清洁时间段更短的累积清洁时间段清洁所述序列中的第二光学元件，其中所述第二光学元件在所述设备运行过程中接收第二辐射剂量，所述第一光学元件在所述设备运行过程中接收第一辐射剂量，所述第二辐射剂量低于所述第一辐射剂量。
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