[发明专利]放射性卤素标记的有机化合物的前体化合物的制备方法有效

专利信息
申请号: 200780048213.X 申请日: 2007-12-17
公开(公告)号: CN101573330A 公开(公告)日: 2009-11-04
发明(设计)人: 外山正人;林明希男 申请(专利权)人: 日本医事物理股份有限公司
主分类号: C07C303/28 分类号: C07C303/28;C07C303/44;C07C309/65;A61K51/00;C07B59/00;G01T1/161;G21G4/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈 昕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种用于制备放射性氟-标记的氨基酸化合物的标记前体的制备方法。在向FACBC的顺式和反式的混合物中引入离去基团的反应步骤中,使反应体系中存在碱,以产生不与碱具有反应性并且高稳定的顺式-离去基团加成物和能与碱反应形成水溶性化合物的反式-离去基团加成物。通过使用利用溶解性差异的精制方法,可以选择性地分离顺式-离去基团加成物。该碱可以是具有1-10个碳原子的直链或支链的伯至叔烷胺,具有2-20个碳原子的包含氮的杂环化合物以及具有2-20个碳原子的包含氮的杂芳香族化合物。
搜索关键词: 放射性 卤素 标记 有机化合物 化合物 制备 方法
【主权项】:
1.放射性氟标记的有机化合物的前体化合物的制备方法,包括:向溶液提供反应条件的步骤,该溶液包含下式(1)表示的化合物:其中,在式(1)中,R1表示羧基的保护基,R2表示氨基的保护基,以及碱和与式(1)表示的化合物的OH基团反应变成离去基团的化合物,和精制步骤,精制由所述反应步骤得到的反应液,以获得下式(2)表示的化合物的基本上单一的立体异构体:其中,在式(2)中,R1表示羧基的保护基,R2表示氨基的保护基,且R3表示离去基团。
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