[发明专利]可直接光限定的聚合物组合物及其方法无效
申请号: | 200780050794.0 | 申请日: | 2007-12-06 |
公开(公告)号: | CN101622289A | 公开(公告)日: | 2010-01-06 |
发明(设计)人: | E·埃尔切;A·贝尔;B·纳普;W·戴门纳;S·贾亚拉曼;J·金;H·额;R·R·普森科威拉科姆;R·拉维基兰;L·F·罗兹;R·希克;W·张;X·吴;E·武内 | 申请(专利权)人: | 普罗米鲁斯有限责任公司 |
主分类号: | C08F232/08 | 分类号: | C08F232/08;C08G61/04;G03F7/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙 淳 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种聚合物,包括由式I表示的第一类型重复单元,其中X选自-CH2-、-CH2-CH2-或-O-;m是0至大约5的整数;并且其中对于第一类型重复单元,R1、R2、R3和R4中之一是含有马来酰亚胺的基团,并且对于第二类型重复单元,R1、R2、R3和R4中之一是受阻芳香基团、C8或更大的烷基、C4或更大的卤代烃基或全卤烃基、C7或更大的芳烷基、或杂原子烃基或卤代烃基。 | ||
搜索关键词: | 直接 限定 聚合物 组合 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物,包括由式I表示的第一类型和第二类型的重复单元:
其中X选自-CH2-;m是0至5的整数;并且其中对于第一类型重复单元,R1、R2、R3和R4中之一是含有由式II表示的基团的马来酰亚胺:
其中A是选自亚甲基、直链或支链C2至C6烃基、卤代烃基或全卤烃基、或取代或未取代的C5至C12环状或多环烃基、卤代烃基或全卤烃基的连接基,并且R5和R6各自独立地选自H、甲基、乙基或正丙基,并且其中R1、R2、R3和R4中的其他选自H、直链或支链C1至C25烃基、卤代烃基或全卤烃基;并且其中对于第二类型重复单元,R1、R2、R3和R4中之一是由式(D)表示的受阻芳香基
其中A2是选自亚甲基、直链或支链C2至C6烃基、卤代烃基或全卤烃基、或取代或未取代的C5至C12环状或多环烃基、卤代烃基或全卤烃基、C2至C12酯、C1至C12酰胺、C1至C12硫化物、或者其组合的连接基;每个Y独立地为例如OH和SH的官能团;y是1至大约3的整数;每个R20独立地为C1至C12烷基(直链或支链的)或环烷基(取代或未取代的);并且x是1至大约4的整数;C8或更大的烷基;C4或更大的卤代烃基或全卤烃基;C7或更大的芳烷基;或杂原子烃基或卤代烃基,其条件是杂原子烃基或卤代烃基不包括环氧基。
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