[发明专利]高压均匀化装置无效
申请号: | 200780101240.9 | 申请日: | 2007-10-23 |
公开(公告)号: | CN101835530A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 安藤成雄;安藤正雄;安藤丰禄 | 申请(专利权)人: | 安藤成雄;安藤正雄;安藤丰禄 |
主分类号: | B01J3/00 | 分类号: | B01J3/00;B01F5/06;B01J3/02;D21B1/04;F04B15/02;F04B53/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 史雁鸣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种高压均匀化装置,在所述高压均匀化装置中,无需拆卸/重新安装增压机构,就能够容易地清洗原料容纳凹部。所述装置包括:高压均匀化机构(1),在所述高压均匀化机构(1)中,使包含原料(G)的悬浊液(2)或半流体(2′)通过孔(3),以便被细分;与高压均匀化机构(1)连通的原料容纳通路(8)。使插入构件(5)和原料处理活塞(4)之一彼此相对运动,从而,将包含原料的悬浊液或半流体被输送到原料容纳通路(8),以便将其细分和处理。当原料处理活塞被向后移动超过原料处理凹部的开口端(6a)时,清洗液体(W)被经由原料容纳通路(8)引入原料处理凹部,并清洗该原料处理凹部的内部。 | ||
搜索关键词: | 高压 均匀 化装 | ||
【主权项】:
一种高压均匀化装置,用于通过使包括由纤维状纤维素和微细固体物中的至少一种构成的原料的悬浊液和半流体之一通过高压均匀化机构的孔,将悬浊液和半流体之一细分/均匀化,所述高压均匀化装置包括:原料处理活塞;原料处理凹部,所述原料处理凹部设置在插入构件上、以便将原料处理活塞的顶端插入其中;增压机构,所述增压机构对所述原料处理活塞和所述插入构件之一增压;以及原料容纳通路,所述原料容纳通路将所述原料处理凹部与高压处理机构连通起来,其中,由于插入构件和原料处理活塞的相对运动所导致的体积减小,包含有原料的悬浊液和半流体之一被压送到原料容纳通路中,将原料细分/均匀化,其中,当原料处理活塞向后移动超过原料处理凹部的开口端时,通过从原料容纳通路将清洗液体供应到原料容纳凹部中,清洗原料容纳凹部的内部。
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