[发明专利]抗反射板及其抗反射结构的制造方法无效
| 申请号： | 200810003180.3 | 申请日： | 2008-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN101487904A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 陈志玮;吴清吉;谢文宗;许文通;林春宏 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B82B3/00;B82B1/00;H01L31/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗反射结构的制造方法，包括下列步骤：首先，提供待处理物于反应区内。接着，提供一等离子体源于反应区内。然后，在常压下解离等离子体源形成等离子体。接着，以等离子体处理待处理物的表面，以于待处理物的表面形成多个微突起结构。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 及其 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种抗反射结构的制造方法，其特征在于，该方法包括：a、提供一待处理物于一反应区内；b、提供一等离子体源于该反应区内；c、在常压下解离该等离子体源形成等离子体；以及d、以等离子体处理该待处理物的表面，以于该待处理物的表面形成多个微突起结构。
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