[发明专利]基板保持机构和等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 200810003447.9 申请日: 2008-01-15
公开(公告)号: CN101226894A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 石田宽 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/66;H01L21/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基板保持机构,该基板保持机构包括:用于向载置台(300)和保持在该载置台(300)的基板保持面上的基板(G)之间供给气体的气体流路(352);将来自气体流路的气体导向基板保持面上的多个气孔(354);比被处理基板的周边向外侧仅离开规定的错位容许量(b)并沿周边配设的、以比载置台的基板保持面高的方式突出的错位检测用突起(332);测定流路的压力的压力表(363);和当将基板保持在载置台上时,根据来自压力测定机构的检测压力对来自气孔的气体的泄漏量进行检测,根据该检测结果对是否有规定的错位容许量以上的基板的错位进行检测的控制部(400)。
搜索关键词: 保持 机构 等离子体 处理 装置
【主权项】:
1.一种基板保持机构,在生成等离子体的空间内载置保持由绝缘体构成的矩形的被处理基板,其特征在于,包括:载置保持所述被处理基板的矩形的载置台;用于向所述载置台和保持在该载置台的基板保持面上的被处理基板之间供给气体的气体流路;在所述载置台的基板保持面形成的、将来自所述气体流路的气体导向所述基板保持面上的多个气孔;以使形成所述气孔的区域成为所述基板保持面的内侧的方式,遍及所述气孔形成区域整个面而形成的凹部;在所述基板保持面的所述气孔形成区域的外周形成的框部;在所述框部形成的多个基板错位检测孔;连通所述基板错位检测孔和所述凹部的连通路;对所述气体流路的压力进行测定的压力测定机构;和在将被处理基板保持在所述载置台上时,根据来自所述压力测定机构的检测压力对来自所述气孔的气体的泄漏量进行检测,并根据该检测结果对所述被处理基板是否有所述规定的错位容许量以上的错位进行检测的错位检测机构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810003447.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top