[发明专利]一种薄膜结构及薄膜结构的形成方法有效
| 申请号： | 200810006536.9 | 申请日： | 2008-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN101524942A | 公开（公告）日： | 2009-09-09 |
| 发明（设计）人： | 施崇棠;张木财;陈富明 | 申请（专利权）人： | 华硕电脑股份有限公司 |
| 主分类号： | B44C1/165 | 分类号： | B44C1/165;B41M5/025 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁 挥;祁建国 |
| 地址： | 台湾省台北市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种薄膜结构及薄膜结构的形成方法。方法包含下列步骤：提供一薄膜；图案化薄膜，形成一图案部份、一透明部份于薄膜上，其中一图案部份及一透明部份的交界处为一边界；以及形成多数个小孔于一边界周围的透明部份上，形成薄膜结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 结构 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜结构，其特征是，包含：一图案部份；一透明部份；一边界，位于上述图案部份及上述透明部份的交界处；以及多数个小孔，形成于上述边界周围的透明部份上。
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