[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法以及存储介质无效
申请号: | 200810009208.4 | 申请日: | 2008-01-29 |
公开(公告)号: | CN101237742A | 公开(公告)日: | 2008-08-06 |
发明(设计)人: | 佐藤亮;齐藤均 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46;H01L21/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘春成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法以及存储介质。提供能够减少装置的构成要素,抑制装置结构的复杂化,并且总是能够进行稳定的等离子体处理的技术。该等离子体处理装置通过切换开关(51)使第一高频电源部选择性地与上部电极(3)和下部电极(6)连接,具有自动进行阻抗值的匹配的第一匹配电路(41)和第二匹配电路(71),在已选择等离子体类别时,参照存储部的数据,通过切换开关(51)使上述高频电源部(5)与对应的电极连接,并且将第一匹配电路(41)和第二匹配电路(71)中作为阻抗调整电路起作用的匹配电路调整至适当的阻抗值。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 方法 以及 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,是包括:在处理容器内与该处理容器绝缘并且相互相对设置的第一电极和第二电极;通过切换部选择性地与第一电极和第二电极连接的第一高频电源部;和在该高频电源部分别与第一电极和第二电极连接时,自动进行阻抗值的匹配的第一匹配电路和第二匹配电路,通过在第一电极和第二电极间产生的等离子体对基板进行处理的平行平板型的等离子体处理装置,其特征在于,包括:存储对应下述内容的数据的存储部:等离子体处理类别、通过所述切换部选择的电极、在所述第一高频电源部与第一电极连接时作为阻抗调整电路起作用的第二匹配电路的适当的阻抗值、在所述第一高频电源部与第二电极连接时作为阻抗调整电路起作用的第一匹配电路的适当的阻抗值;和控制部,在已选择等离子体处理类别时,参照所述存储部的数据,通过切换部使所述第一高频电源部与对应的电极连接,并且输出用于将第一匹配电路和第二匹配电路中作为阻抗调整电路起作用的匹配电路调整为适当的阻抗值的控制信号。
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