[发明专利]阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件有效
申请号: | 200810009965.1 | 申请日: | 2008-02-15 |
公开(公告)号: | CN101244641A | 公开(公告)日: | 2008-08-20 |
发明(设计)人: | 阿形祐也 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B7/02 | 分类号: | B32B7/02;B32B27/06;C09K3/10 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及阻隔性层叠体、阻隔性膜基板、它们的制造方法以及器件。本发明的目的在于提供水蒸气透过率低于0.01g/m2/天且粘附性良好的有机无机层叠型的阻隔性层叠体和阻隔性膜基板,以及提供使用了上述阻隔性层叠体或阻隔性膜基板的耐久性高的器件。在本发明中,作为有机无机层叠型的阻隔性层叠体的有机层,采用包含具有由上式表示的结构单元的聚合物的层。由此,水蒸气透过率降低,粘附性变良好。在下式中R1及R2表示氢原子或甲基,L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。 | ||
搜索关键词: | 阻隔 层叠 性膜基板 它们 制造 方法 以及 器件 | ||
【主权项】:
1.一种阻隔性层叠体,其特征在于,其具有至少1层有机层和至少1层无机层,且所述有机层为包含具有由下述通式(1)表示的结构单元的聚合物的层,通式(1)
式中,R1及R2各自独立为氢原子或甲基,L表示碳原子数为8以上且不含有氧原子、氮原子、硫原子的开链状亚烷基。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810009965.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:红移的水分散性萘酞菁染料
- 下一篇:漂白组合物