[发明专利]一种在镍铁焊盘上实现焊料互联的工艺方法无效
申请号: | 200810011620.X | 申请日: | 2008-05-30 |
公开(公告)号: | CN101593710A | 公开(公告)日: | 2009-12-02 |
发明(设计)人: | 约翰·保罗·达发;尚建库 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明属于微电子器件制造领域,具体为一种在镍铁焊盘上实现焊料互联的工艺方法。更具体而言,是在铜制印刷电路板上、芯片金属层上、芯片基板上电镀镍铁焊盘的工艺,以实现加强型下凸缘冶金。本发明也涉及焊料突起的制备,以实现在微电子器件上的机械和电子互联。本发明采用铝制阴影掩模隔离镍铁焊盘的方法制造焊料突起,含有回流焊剂的焊膏通过掩模的筛选在镍铁焊盘的表面上形成一个薄层;在焊膏拓印完之后,把焊球散布在镍铁焊盘之上;焊膏层此时就成为“粘合剂”把焊球固定住,移去掩模即可。本发明镍铁焊盘可作为下凸缘冶金的基体,制造可靠的C4倒装晶片结构,用以生产镍铁合金的球格点阵、倒装晶片以及其它点阵类型的电子仪器组件。 | ||
搜索关键词: | 一种 镍铁焊盘上 实现 焊料 工艺 方法 | ||
【主权项】:
1、一种在镍铁焊盘上实现焊料互联的工艺方法,其特征在于,在印刷电路板的镍铁焊盘上制造焊料突起,包括如下步骤:首先,准备与电路设计相匹配的阴影掩模;其次,使用与设计图样匹配的阴影掩模拓印焊膏,将焊膏拓印在镍铁焊盘上,使焊膏完全位于阴影掩模之内,从而实现在掩模上的孔洞中形成定位凹槽;第三,将焊球置于焊膏产生的凹槽中,将焊球固定;第四,样品回流;取下阴影掩模,回流样品,回流温度应当与所选焊料的回流特性相匹配。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造