[发明专利]可调式硬面光掩模基板加工承载清洗器具及装配方法无效
| 申请号： | 200810040610.9 | 申请日： | 2008-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN101630120A | 公开（公告）日： | 2010-01-20 |
| 发明（设计）人： | 袁克文 | 申请（专利权）人： | 上海棱光实业股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;C03B19/00;C03B23/00 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 徐伟奇 |
| 地址： | 200241上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及硬面光掩模基板制造领域以及光学玻璃加工领域，尤其是一种用于硬面光掩模基板制造过程中的承载清洗器具及其装配方法。其由槽口架(a1)、导向定位杆(a2)组合而成；所述的槽口架(a1)由槽口板(b1)、筋板(b3)通过固定件定位连接而成，在槽口板(b1)左右二面开有镜向对称槽(c1)和与对称槽(c1)垂直贯通的底部条形槽(c2)；在槽口板(b1)左右二面端部开有供定位安装导向定位杆(a2)的导向孔(k1)。本发明承载清洗器具具有通用性好，灵活方便，整体不易变形，清洗过程中不会出现水流阻挡现象，能有效提高工件的洁净度和操作功效。 | ||
| 搜索关键词： | 调式 硬面 光掩模基板 加工 承载 清洗 器具 装配 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可调式硬面光掩模基板加工承载清洗器具，其特征在于，由槽口架(a1)、导向定位杆(a2)组合而成；所述的槽口架(a1)由槽口板(b1)、筋板(b3)通过固定件定位连接而成，在槽口板(b1)左右二面开有镜向对称槽(c1)和与对称槽(c1)垂直贯通的底部条形槽(c2)；在槽口板(b1)左右二面端部开有供定位安装导向定位杆(a2)的导向孔(k1)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海棱光实业股份有限公司，未经上海棱光实业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810040610.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
