[发明专利]一种氧化物薄膜的湿法刻蚀装置

摘要

本发明公开了一种氧化物薄膜的湿法刻蚀装置，包括一刻蚀槽和一放置薄膜基片的载体，所述刻蚀槽底部是弧形；所述载体底部设有车轮，刻蚀槽内设有轨道，车轮沿轨道进出刻蚀槽，刻蚀槽上有盖板，盖板不干涉载体进出刻蚀槽，该装置还包括一控制单元，控制单元控制载体运动，所述载体上设有基片夹，固定薄膜基片。通过载体在刻蚀槽中的运动的流水线生产设计理念，使得每一片在酸液槽中的时间相同，同时保证了酸液的浓度波动范围较小，提高了酸液的利用率，提升了产品的质量，加快了生产效率。

主权项

1、一种薄膜基片的湿法刻蚀装置，包括一刻蚀槽(8)和一装载薄膜基片(2)的载体(9)，其特征在于：所述刻蚀槽(8)底部是弧形；所述载体(9)设有车轮(1)，沿刻蚀槽(8)底部运动。